膜厚测试仪

膜厚测试仪利用X射线荧光的非接触式的无损测试技术*地应用于微电子学、光通讯和数据储存工业中的金属薄膜测量。可以同时测量多至6层的金属镀层的厚度和成份，测量厚度可以从埃（?）至微米（um），它也能测量多至20个元素的块状合金成份。此仪器结构紧凑、坚固耐用、用于质量控制的可靠的台式X射线荧光分析设备，提供简单、快速、无损的镀层厚度测量和材料分析。
如果您需要一台出色、准确可靠的测量仪器，BA 100 是您正确的选择。

膜厚测试仪分析:
元素范围：铝13到铀92。
x射线激发能量：50 W(50 kv和1 ma)钨靶射线管
探测器：硅PIN检测器250 ev的分辨率或更高的分辨率
测量的分析层和元素：5层(4层镀层+基材)和10种元素在每个镀层成分分析的同时多达25元素
过滤器/准直器：4个初级滤波器,4个电动准直器（0.1 0.2 0.3 1.5mm）
聚焦:多固定聚焦与激光系统
数字脉冲处理:4096 多通道数字分析器与自动信号处理，包括X射线时间修正和防X射线积累
电脑:英特尔酷睿i5 3470处理器(3.2 ghz),8 gb DDR3内存,微软Windows 7专业64位等效
镜头:1/4 " cmos - 1280 x720 VGA分辨率
电源:150 w、100 ~ 240伏,频率范围47赫兹到63赫兹
工作环境:50°F(10°C)到104°F(40°C)小于98% RH,无冷凝水
重量:32公斤
内部尺寸:高:140毫米(5.5”),宽:310毫米(12),深:210毫米(8.3”)  140*310mm
外形尺寸:高:450毫米(18英寸),宽:450毫米(18),深:600毫米(24)    450*450mm