CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。
等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。
CIF推出CPCP-G系列新一代带搅拌功能的专为处理粉体样品的等离子清洗机，采用质量流量计（MFC）气体输送控制。主要特点是专业、处理样品量大、快速高效、动态清洗，处理均匀、、无污染、气体输入准确。
技术参数
型号 | CPCP-G | CPCP- Gplus |
舱体尺寸 | H120XΦ370mm | H120XΦ370mm |
舱体容积 | 12.8L | 12.8L |
石英转瓶尺寸 | Φ286xH88mm | Φ286xH88mm |
转瓶转速 | 1-15rpm/秒可调 | 1-15rpm/秒可调 |
射频电源 | 40KHz | 13.56MHz |
匹配器 | 自动匹配 | 自动匹配 |
射频功率 | 10-300W可调 | 10-300W可调 |
气体控制 | 质量流量计（MFC）（标配单路，可选双路） | |
产品尺寸 | L618xW520xH665mm | |
