详细摘要： 关键词：SiO2、AlN、Al2O3、介电膜、刻蚀、电子枪、离子枪、氧化铝、氮化铝、二氧化硅型号：MEB400S
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详细摘要： 关键词：SiO2、AlN、Al2O3、介电膜、刻蚀、电子枪、离子枪、氧化铝、氮化铝、二氧化硅型号：MEB400S
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详细摘要： 关键词：热障层、红外波导、lift-off工艺、HMET晶体管、PHMET晶体管、欧姆接触、肖特接触、磁性材料、MEMS封装、约瑟夫森电路型号：MEB550S
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详细摘要： 我们采用以下手段，可以制备各种膜！电子束蒸镀（E-beamevaporation）：-可以蒸镀各种金属、非金属材料磁控溅射镀膜（MagnetronSputter...
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详细摘要： 关键词：镀膜、金属膜、Al,Ti,Cr,Ni,Cu,Au,Nb,W,Pd,Pt,Mo可在导体或绝缘体上溅射任何薄膜气路：Ar气路配搭MFC阴极：3个4英寸直流磁...
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详细摘要： SL-ALC全自动长程可调气室（用于激光等离子体加速器）资料下载：SL-ALC介绍1;SL-ALC介绍2SL-ALC-HI是一款全自动长度可调气室，设计用于那些...
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详细摘要： 关键词：单层膜、多层膜、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型号：MP900S产地：欧洲...
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详细摘要： 关键词：单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射连续沉积、进口磁控溅射、Si...
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详细摘要： 关键词：RIE、RIBE、反应离子束刻蚀、CAIEB、化学辅助离子束刻蚀、过渡金属、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型号：MU7...
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详细摘要： 我公司能够提供下列服务：电子束曝光：制备光刻胶图像作为掩膜，最小可以制备线宽为7nm的图像
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详细摘要： 关键词：超高功率、输出窗口、RF、MW、损耗因子大面积金刚石窗口用于激光、微波、无线电RF及太赫兹输出窗口，主要指标如下：介电常数：5.7
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详细摘要： 目前为止，主要通过同步辐射产生的X射线才足够明亮达，实现软X-ray显微成像，但是同步辐射装置占地足球场大小，价格及其昂贵，我们提供基于真空中激光致等离子体技术...
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详细摘要： 高功率激光实验专用靶/相位片/ARCoating1）提供几个nm-um薄箔靶，例如Al,Au,Cu,Ta,V,塑料,多层膜,合金靶等
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详细摘要： 常规的气体阀门开/关时间数毫秒（ms），而超快气体阀开/关时间分别有一个案例说明：以前LBNL用其他供应商的气体阀（真空腔室用11000L/s的分子泵抽气），重...
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详细摘要： -氦气气体靶获得X射线参考指标：-laser:50TW,30fs,10Hz-bright:10^6photons/shot/0
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