上海沛沅仪器设备有限公司
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PLUTO-30是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户的灵活性。
产品特点专用气体输送系统，提供气体分配均匀性和灵活的气体分配方法
不同工艺模式（RIE、下游等离子体等）的柔性电极配置
的射频系统提供的工艺重复性和处理效率
全自动处理能力
图形用户界面支持配方编辑器、配方驱动流程并提供实时流程信息
台式设计需要较小的占地面积
技术参数
应用领域
典型应用
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性：预压模粘合；预焊线粘合
增强表面胶体流动性：预成型；预倒装芯片下溢
表面粗糙度和蚀刻
降低表面应力，改善表面粘结性
灰化和表面清洁
Plasma等离子蚀刻（配备RIE配置)
电介质/III-IV材料
纳米涂层（配备液体前体输送装置）
耐水纳米涂层：印刷电路板表面处理
防腐纳米涂层：科研，医疗植入物
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