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“TheGrandEPMA"诞生 搭载场发射电子光学系统将岛津EPMA分析性能发挥到 从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有空间分辨率的场发射电子光学系统
| “The Grａnd EPMA" 诞生 搭载场发射电子光学系统 从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有空间分辨率的场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至。 当之无愧的“The Grａnd EPMA" ，水准的EPMA诞生！ |  |
使用分析条件束流，引以为傲的二次电子图像分辨率。（加速电压10kV时，20nm@10nA//50nm@100nA/150nm@1μA）。与原来的电子枪（CeB6、钨灯丝）的结果相比，一目了然。
由于可用更大的束流得到与原来电子枪相同分辨率的图像，所以可进行超高灵敏度的X射线分析。 更加值得注意的是，束流为1μA时的SEM图像。能够得到1μA以上束流，而且可以压缩到如此细的只有EPMA-8050G。
各种电子枪产生电子束的特性比较（加速电压10kV）
场发射类型的SEM、EPMA可实现其他仪器所不能达到的大束流（加速电压30kV时3μA）。在超微量元素的检测灵敏度上实现了质的飞跃，将元素面分析时超微量元素成分分布的可视化成为现实。而且，所有束流范围内不需要更换物镜光阑，不用担心合轴，实现了高度自动化分析。
面的3个图像为不同束流下，对不锈钢中约1%左右Si进行面分析的结果※。束流越大，偏差越小，越能更加清楚的确认包含Si的范围。
※ 分析条件：加速电压10kV，积分时间50msec。分析花费时间约1小时。
X射线取出角决定分析性能，52.5°更胜
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| 对X射线的吸收越少，灵敏度越高。 | 高X射线取出角，可降低吸收带来的影响，可以对深孔底部、孔中异物进行分析。 |
 | 对深孔中异物的分析实例。左下为铁（Fe）的分布，右下为钛（Ti）的分布。通过EPMA-8050G的高取出角，即使是表面明显凹凸不同的样品，也可进行高精度分析。 |
分光晶体采用全聚焦型晶体。
 | 秉承岛津研发经验的晶体加工制备工艺，保证提供高灵敏度·高分辨率兼备的分光晶体。Johanson()型分光晶体是全聚焦晶体，无像差。 |
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度、高分辨率的4英寸谱仪。
 | X射线谱仪罗兰圆直径是影响EPMA分析性能至关重要的因素之一。罗兰圆半径每增加1英寸，检出灵敏度下降30%以上。岛津EPMA可最多 |
全部操作仅需一个鼠标就可实现的可操作性、追求「易懂」的人性化用户界面、搭载导航模式等多个新功能，将「简单易懂操作」成为现实。无论是初学者还是专家级用户都可进行得心应手的操作分析。
● 从样品导入到生成分析报告，操作方便。
● 即便是次使用也可轻松进行样品定位SEM观察。
● 的可操控性，大大提高分析准备工作的效率。
● 视觉上追求「易懂」的人性化用户界面。
● 搭载导航模式，自动指引直至生成分析报告。
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