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电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02（导电胶）

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产品简介

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料• 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等。

详细介绍

特点：

• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应

• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单

• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm

• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料

• 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室

5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等；

5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520

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