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JBX-6300FS 电子束光刻系统

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更新时间：2024-11-24 06:14:12浏览次数：32次

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产品简介

JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比。利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9

详细介绍

JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。

此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比。

利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司的ＤＦ/DS系统能对电子束偏转产生的畸变进行校正，具有球差和象散自动补偿功能，可在场边角、场边界处进行高精度地描画。

该系统采用了19位DAC和样品台控制精度为0.6nm的激光干渉仪，实现了业界水准的位置精度、拼接、套刻精度（±9nm）。　可用于位置精度要求很高的光子器件、通信设备等领域的研究和开发。

本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。

扫描速度高达50MHz，再加上地抑制了机器的准备操作时间，因此缩短了描画时间，到描画开始为止的作业非常简单，聚焦也能够自动进行，因而能提高总产出量。

使用自动装载系统（选配），最多可以连续描画10个样品架。（例：可连续描画10张6英寸的晶圆片或者40张2英寸的晶圆片等。※连续描画时，需要和材料数相应的样品架。）目前在日本国内外已有这样的生产线。

利用微间距控制程序（场尺寸精调程序），可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。

电子枪	ZrO/W 肖特基型
描画方式	描画方式
加速电压	25kV (选配), 50kV, 100kV
样品尺寸	200mmΦ的晶圆片, 5英寸或 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小样品。
样品尺寸	2000μmＸ2000μm
样品台移动范围	190mmX170mm
套刻精度	≦±9nm
场拼接精度	≦±9nm
扫描速度	50MHz