奥坤鑫（苏州）机电科技有限公司
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产品特点1.更优良的处理效果：放电面值增加至50mm，对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果；2.更快速的处理速度：可达8M/min；3.更低的过程处理温度：过程温度≤40ºC，有效保护产品，不产生热损伤；4.更稳定的过程控制：等离子放电更稳定，不产生电弧，不产生电损伤；5.更低廉的使用成本：使用氮气（N₂)和压缩空气（C...
产品特点
1. 更优良的处理效果：放电面值增加至50mm，对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果；
2. 更快速的处理速度：可达8M/min；
3. 更低的过程处理温度：过程温度≤40ºC，有效保护产品，不产生热损伤；
4. 更稳定的过程控制：等离子放电更稳定，不产生电弧，不产生电损伤；
5. 更低廉的使用成本：使用氮气（N₂)和压缩空气（CDA）作为工艺气体，制氮机可供应，维护费用低；
6. 更少的微尘产生：的电极结构和处理方式，微尘（Particle）产生最小化。
应用于手机制造、摄像头、指纹模组、半导体制造、包装、印刷、涂覆、高分子材料等。
1. LCD(2G~11.5G)，OLED生产制程中广泛使用；
2. TP（触摸屏）生产制程中广泛使用；
3. AF镀膜（防指纹），AS镀膜（防刮），AG镀膜（防炫），AR镀膜（增透）前处理；
4. 显示屏全贴合前处理、显示屏ACF压合前处理；
5. 金属薄膜（Cu、Al等）、非金属薄膜（PET、PI等）卷材涂覆、粘接前表面处理。
类型 | 宽幅等离子体清洗设备 Plasma Cleaning | |||||
型号 | A款：100~3170mm（处理宽幅） | |||||
构成 | 等离子电源、UT气体控制单元、等离子电极单元 | |||||
规格 /性 能 | 工艺气体 | 功率 | 气体流量 | 处理间距 | 处理温度 | 水滴角 |
N2 + CDA | 1~20KW | N2 ：80-1200L/min CDA： 1-9 L/min | 2~3mm | ≤40ºC | ≤10 °(100mm/ s) | |
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