北京英格海德分析技术有限公司
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Hiden’s XBS system provides in-situ monitoring of multiple sources with real-time signal output for precise control of the deposition.
XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System)，适于精确的MBE分析，其他气体分析和科学实验使用。Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232、RS485 或以太网控制。
·离子源控制，用于软离子化和表观电势质谱
·灵敏度增强用于大质量数的传输，自动质量数范围列表
·一级过滤处增加射频，抗污染物能力增强
·内置UHV 兼容的水冷却罩
·灵敏度高，检测范围： 99% 至5ppb
·质量数范围： 0~ 510amu
·长期稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5%)
·交叉离子源，束接收角同轴的横断面呈 ±35°
·2mm 束接受孔，也可为特殊使用者配置
·分子束研究中，检测极限低至30 ions/s
·监测生长速率： 1Å / min，或更低
XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)
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