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所 在 地深圳市
更新时间:2022-11-08 09:59:17浏览次数:213次
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所在地区:广东深圳市
联系人:林经理
德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。
德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备
该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。主要技术参数:PC控制软件RF发生器 0~3000W 脉冲模式腔体防腐处理,400*400*1500mm,240L腔体加热80℃带观察窗多路工艺气体通道,MFC控制 防腐处理HMDSO单体通道易燃易爆气体安全阀Gas Shower气浴电极设备外尺寸2000*600*1700mm进口真空泵组电压 3项400V
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