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Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4400

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更新时间：2022-11-07 12:15:56浏览次数：224次

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深圳市科时达电子科技有限公司

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产品简介

特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadbａnd UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺• 可替代SU8胶。

详细介绍

特点：

• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等

• 感光波段：Broadbａnd UV、i-line(365nm)

g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron

• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等

• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直

• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度

• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺

• 可替代SU8胶