产品用途:
1、广泛用于纳米级的化学机械抛光,如:硅片、化合警惕、精密学器件、硬盘硬件、手机配件、电脑配件、显示屏、宝石等纳米级抛光加工
2、配合各种研磨石,钢珠,高铝瓷,高频瓷软化工件表面以加速磨削,减少研磨石 对工件的碰伤,使工件表面达到理想光泽度
3、对水有调节作用,可以使水质软化,以充分发挥水的缓冲
注意事项:
1、由于产品在贮存一段时间后,会逐渐增稠甚至呈冻状,所以在使用建议以1:1的水和溶液比例使用;并建议搅拌均匀在添加
2、在添加时,还应该注意体系的粘度,避免由于 基料粘度太低或 剪切速率低而导致的重絮问题
技术指导:
外观 | 乳白色稠状液体 | 平均原生粒径 | 30-100nm |
比重 | 1.20--0.02 | 稳定性 | 2年 |
固含量 | 40.0--1.0 | PH值 | 1.0--8.0 |
有效含量 | 小于40% | | |