资料下载：PLASSYS 约瑟夫森结制备系列系统(磁控溅射,电子束蒸镀).pdf[786KB]
资料下载：微波等离子体化学气相沉积系统、磁控溅射、电子束蒸镀、反应离子束刻蚀.pdf[903KB]
关键词: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金刚石、微波等离子体化学气相沉积系统
CVD金刚石合成设备、纳米晶金刚石、单晶金刚石、single crystal diamond、SCD、
Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System
型号：SSDR150， 产地：欧洲
腔体：铝合金腔体，内含石英管反应室；可以长时间满功率运行。
微波发生源：频率为2.45GHz、功率为6KW，LCD数显微波入射和反射功率。
4条气路：分别为氢气、甲烷、氧气、氮气
可以增加额外3条气路、可以选择气体（B、N、P）或液体（P）掺杂。
样品台： 水冷，可以容纳2英寸衬底；
测温系统：采用双色高温计；
真空系统：干泵+分子泵。
可以选配： 光谱仪，样品台旋转功能，微波发生源脉冲模式，3-4英寸样品台
控制系统：配套有全自动控制系统、工业电脑、必要的数据接口及操作软件；
支持多级用户权限设置和多用户管理，系统支持设备的远程操作和维护；
系统含故障报警及定位功能，能及时提示相应故障部件。
支持半自动和手动操作模式。
设备应用：具备多种用途，以满足用户科研需要；
适合生长杂质浓度低于1ppb的超高纯度单晶，且有大量专业科技文献佐证；
适合一次性生长厚单晶以及多种子生长；
适合金刚石掺杂（硼、磷等）研究及光学级多晶窗口生长。
工艺培训：原厂工程师现场演示金刚石生长，包括种子选择、种子预处理、
种子的固定及生长工艺等培训，并现场演示单晶生长；
原厂需具有高水平和丰富的金刚石生长工艺经验。
若有兴趣，可随时联系咨询我们！
