2022-11-07 12:11:37161
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点：•耐酸碱保护胶•不含光敏物质，无需黄光室•在40%KOH或50%HF酸中可长时间稳定•通过双层工艺可实现正性(AR-P3250)或负性(AR-N4400-05/10)光刻工艺旋涂曲线。
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