CMP-4S型自动磨抛机为双盘台式机，是中心力加压和单点加压的一体机，是依据**标准，采用**工艺技术制造的新一代高精度、制样过程自动化的研抛光设备。具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更换；多试样夹试器和气动单点加载等功能。本机采用了的微处理器控制系统，使得磨抛盘、磨抛头的转速实现无级可调，制样压力、时间设定直观、便捷只需更换磨抛盘或者砂纸和织物即可完成磨、抛工序的操作。从而使本机展现了更加广泛的应用性。具有转动平稳、安全可靠、噪音低及采用铸铝底座增加了磨抛的刚性等特点。
本机带有水冷却装置，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织并随时将磨粒冲刷排走；再配以玻璃钢外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。
适用于对金相试样的粗磨、精磨、粗抛光至精抛光过程进行自动制样。是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
主要技术指标：
磨抛盘直径：φ250mm（可订制φ230mm、φ300mm）
磨抛盘转速：50-1000 r/min（无极调速）以及300 / 600 / 900 r/min（三级定速）
磨抛盘转向：可调正反转选择
磨抛头转速：5-150 r/min（无极调速）
制备样数量：6个
输 入 气源：0.4-0.7Mpa， 制 样 时间：0-3000 S
制 样 压力：单点20-70N 中心150-300N
试 样 直径：出厂标配φ30mm（可订制直径φ22-φ45mm）
输 入 电压：单相 AC220V 50Hz 输 入 功率：1.1KW
外 形 尺寸：735*570*590mm
净 重：100KG
毛 重：120KG
