编号 | 内容 | 规格参数 | 备注 |
1 | 整机结构 | 带load port系统分为前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元，前端EFEM系统与等离子体处理单元分体式设计 | |
2 | 等离子体源 | 射频等离子体源或双频等离子体源 | |
3 | 反应腔室 | 标准设计为双反应腔室，可根据需求定制单反应腔室和多反应腔室结构 | |
4 | 机械传片 | 单臂或双臂高精度机械手 | |
5 | Wafer升降 | 机械式Wafer pin升降结构，Wafer pin采用特定工艺处理 | |
6 | 前真空泵 | 干式真空泵，根据安装位置及工艺不同，选择100-300m3/h规格 | |
7 | 高真空真空泵 | 分子泵（水冷或CDA冷却） | |
8 | 工艺压力控制 | 自动调压蝶阀 | |
9 | 真空检测 | 管道真空计、反应腔室全量程真空计、工艺真空计、压差开关 | |
10 | 工艺气体种类 | 标准配置高纯Ar、N2、O2，可增加其他高纯工艺气体 | |
设备主要应用：晶圆级封装前表面预处理、晶圆级键合前表面活化、光刻胶涂覆前表面活化、晶圆表面较小particle去除、表面有机残留去除等。 设备主要特点：可兼容多尺寸晶圆、可实现多反应腔室定制、超洁净反应腔室，有效控制各种污染物、整机空间环境污染物控制、射频等离子发生器或双频等离子发生器、晶圆表面损伤小，可用于带图形晶圆的表面活化、等离子体密度高、均匀性好。 | |||
奥坤鑫科技有限公司于2009年成立，是专注于等离子体表面处理设备的高科技技术企业。 2010年成立昆山公司，立足华东，成立OKsun在长三角的销售和代加工中心。2010年10月和其他科研机构合作在苏州成立等离子体科技与应用研发中心，与江苏多所大学合作，就等离子体科技做深入科研及工业应用研究，成为拥有独立自主等离子体研发能力的优秀企业。 OKsun品牌目前已经拥有中频、射频等多款等离子处理机型，性能优良，性价比;处理方式有水平、垂直、卷式RTR、转鼓等真空等离子处理设备;另外还具有常压(大气)喷射式、大气准辉光式、隧道式、水平线等多种常压等离子处理设备。 OKsun品牌等离子体表面处理设备广泛应用于PCB制造、电子电路、电子电器、汽车制造、半导体制造、包装、印刷、涂覆、高分子材料、塑胶五金、、灭菌等行业，目前已经成为真空等离子体处理设备优秀生产企业，产品面涉及极为广泛。 我们倡导技术创新，以满足客户的个性化需求为已任，为客户提供与等离子处理系统相关的技术支持服务，致力于成为的者!
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VCP系列晶圆级等离子清洗机 产品信息
