双靶高真空磁控溅射仪

主

要

特

点

•体积小，操作简便
•真空腔室、真空泵组整机模块化设计，控制电源为分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。
•可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪，购买前请联系我公司销售。

 基

本

参

数

●输入电源：220V AC 50/60Hz
●功率：＜2KW（包含真空泵）
●溅射电源：安装有两个溅射电源：
●直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜
●射频（RF）电源：300W，可制作氧化物和金属膜

真空腔体：

●真空腔体：φ300 mm  x 300 mm H，采用不锈钢制作
●观察窗口：φ100 mm
●腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易

气体流量控制器：

●仪器内部安装有2个质量流量计，量程为：0-100sccm
●气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
●此系统运行需要Ar气，并且气瓶上安装有减压阀（设备中不包含）

真空系统：

●配有一套GZK-103D分子泵系统（德国制作）
●标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar（仅供参考，详情请点击）

薄膜测厚仪（可选）：

●一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
●LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

产品尺寸：L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

净重：160 kg

磁控溅射头：

●仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头，而且都带有水冷夹层
●一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
●另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材
●靶材尺寸要求：直径为50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
●可以单独订购RF连接线作为备用
●设备包含一台水冷机，用于靶头冷却

载样台：

●载样台尺寸：φ140mm（可放置4"的基底）
●载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）
●载样台可加热温度为500℃